- 1
- 2
歐洲進口工業設備
五金工具建材
機械
泵閥儀表
儀器儀表
模擬盒藥物測試安全表校準器組合式測試設備控制系統硬度計熱交換器掃描器沾污儀紫光源混合器萬用表百分表風速儀分度盤放大器六分儀熱像儀拐檔表數顯表檢測儀木材測濕儀電子秤靜電消除器真空計壓力表進樣器移液器剩磁探測測試儀擺動缸濾芯測力計打標機試驗機混合機平衡器溫控器壓力氣壓張力能量計報警器測距儀定位器熒光儀編碼器注射器打印機液位計折光儀流量計感應機探測器檢測器超聲波發生器濕度計傳感器聯軸器烘烤設備檢漏儀制冷機輻射測溫傳輸探頭光譜儀射線干燥器發射器指南針印刷設備操作面板顯示器粘度計量塊調節器采樣記錄儀油位計料位計冷卻分析溫度計壓差測量發生器電子電工
壓力開關
實驗室設備
| 荷蘭SPARKNANO空間原子層沉積系統S-ALD系統產品特點與用途 |
| 點擊次數：402 更新時間：2025-06-12 |
荷蘭SPARKNANO空間原子層沉積系統S-ALD系統產品介紹
一、 品牌與產品概述 荷蘭SPARKNANO公司 (SparkNano B.V.)，一家專注于原子層沉積(ALD)技術的設備制造商。 核心產品：空間原子層沉積(S-ALD)系統。該技術區別于傳統時序ALD，采用空間分隔反應氣體和連續基板運動的方式實現薄膜沉積。產品定位：提供從研發、中試到大規模工業生產的S-ALD設備解決方案，滿足不同基材和產量的需求。
二、 產品型號與技術參數 SPARKNANO提供以下三個主要產品系列，對應不同應用場景： 1、LabLine系列 ? 定位：研發、工藝開發、原型制作及中試生產。 ? 簡介：靈活的系統，用于探索S-ALD工藝在各種材料上的應用。 ? 工作原理：基板在反應腔內連續移動，依次通過物理隔離的不同前驅體和反應氣體區域，實現薄膜的逐原子層生長。過程無需反復抽真空，沉積連續。 技術參數： ? 適用基材：晶圓、玻璃、金屬箔、聚合物箔、多孔材料。 ? 最大樣品區：420 mm x 300 mm。 ? 前驅體通道：標準4路（可擴展）。 ? 反應選項：H?O（標準），等離子體（O?, O?, H? 可選）。 ? 溫度范圍：熱S-ALD 50–250°C；等離子體S-ALD 50–200°C。 ? 裝載方式：手動（雙前室）。 2、Vellum系列 ? 定位：大面積剛性或柔性平面基材（如晶圓、玻璃、金屬箔）的片對片(Sheet-to-Sheet)量產。 ? 簡介：高產能系統，設計用于自動化大批量生產。 技術參數： ? 基板尺寸：0.5m x 0.5m 至 1.5m。 ? 處理速度：可達20片/分鐘（視基板與工藝而定）。 ? 溫度范圍：熱S-ALD 50–250°C；等離子體S-ALD 50–200°C。 3、Omega系列 ? 定位：柔性聚合物箔或金屬箔的卷對卷(Roll-to-Roll)超高產量量產。 ? 簡介：專為連續處理柔性長幅材料設計，追求高線速度。 技術參數： ? 適用基材：聚合物箔、金屬箔。 ? 幅寬：300mm – 2000mm (可定制)。 ? 線速度：可達60米/分鐘（視工藝而定）。 ? 工藝兼容：熱S-ALD和等離子體S-ALD。
三、 核心特點 SPARKNANO S-ALD系統的特點包括： ? 沉積速度提升：空間連續沉積方式，相比傳統時序ALD，完成相同厚度薄膜所需時間通常縮短（例如LabLine沉積50nm Al?O?約10分鐘）。 ? 基材適應性寬：系統設計可處理多種形態的材料，涵蓋剛性基底（硅片、玻璃）、柔性箔材（聚合物、金屬）以及具有孔隙的材料。 ? 工藝靈活可選：支持熱模式及等離子體增強模式（PE-ALD），可使用多種前驅體和反應氣體（如H?O, O?, O?, H?等離子體），擴展了可沉積材料范圍。 ? 研發到生產路徑清晰：LabLine的工藝開發成果可直接遷移至Vellum（片對片量產）或Omega（卷對卷量產）系統，支持技術產業化。 ? 模塊化理念：設備設計考慮模塊化，便于根據特定應用需求進行配置調整或后續功能升級。
四、 應用領域 SPARKNANO S-ALD系統適用于多個技術領域，具體應用如： ? 能源存儲：用于鋰離子電池電極材料涂層、固態電池電解質/電極界面層、電池隔膜涂層，提升電池性能和壽命。 ? 光伏太陽能：用于晶硅太陽能電池表面鈍化層、薄膜太陽能電池的功能層（緩沖層、窗口層等）沉積。 ? 平板顯示：用于OLED顯示器的薄膜封裝層(TFE)，阻隔水氧，延長器件壽命。 ? 新興能源技術：用于電解水制氫（綠氫）設備中的催化劑涂層、膜電極制備。 ? 半導體相關：用于先進封裝中的介質層沉積、MEMS器件功能薄膜沉積。 |
18804209403
首 頁